| ● 生长腔为柱状结构，材质为SS316不锈钢； | ● 模块化设计，既满足现有材料制备的需求，也提供未来扩展可能性； |
| ● 配置及性能指标满足高精度薄膜材料制备的需求； | ● 应用范围广，如：超导薄膜，拓扑绝缘体，异质结构，等等 |
| 生长室 | 生长腔内径：250mm |
| 生长腔极限真空：<5×10-10 mbar | |
| 超高真空抽气系统：450L/s以上抽速分子泵（Edwards或Pfeiffer品牌），包含前级机械泵及配套真空管路、安全阀等；可选配离子泵、TSP等，以实现更好的本底真空 | |
| 真空测量：离子规及Pirani真空规，覆盖2×10-11 mbar至大气压的测量范围，并与真空控制系统关联集成，实现系统的安全保护 | |
| 4轴样品架（垂直方向安装）：匹配标准flag-type样品托，工作温度：室温-1200K；可选配低温模块（液氮制冷），电子束加热模块，或者Direct Heating模块 | |
| 包含膜厚测量仪（QCM）及配套的线性驱动，实现晶振探头的移动操作 | |
| 蒸发源安装口：10个；可根据用户实际需求进行低、中、高、电子束蒸发源的配置 | |
| 包含蒸发源挡板，可实现薄膜样品的自动生长 | |
| 可选配离子源（Ion Source） | |
| 可选配等离子源（Plasma Source） | |
| 可选配高能电子衍射仪（RHEED） | |
| 可选配液氮冷阱 | |
| 快速进样室 | 本底真空：<5×10-8 mbar |
| 超高真空抽气系统：80L/s分子泵（Edwards或Pfeiffer品牌），包含前级机械泵及配套真空管路、安全阀、放气阀等 | |
| 真空测量：全量程真空规，覆盖5×10-9 mbar至大气压的测量范围，并与真空控制系统关联集成，实现系统的安全保护 | |
| 样品停放台：6个停放位（可升级至12个停放位） | |
| 样品传递装置：600mm行程传样杆，包含样品托抓取头及法兰调节器 | |
| VAT CF63闸板阀，用于生长室与快速进样室的隔断 | |
| 系统集成及控制 | 真空控制及保护系统，集成真空规信号、分子泵控制、蒸发源保护、烘烤保护等功能 |
| 包含蒸发源、样品架的温度控制软件 | |
| 包含挡板控制软件 | |
| 热风式烘烤模块，烘烤温度均匀，拆装方便 |
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