| ● 一套小型、经济型的分子束外延系统 | ● 可结合RHEED原位测量，功能完善的分子束外延系统 | ● 可作为预处理系统，用于生长前或者生长后样品处理 |
| Sphere-300 | 模块描述 | 配置参数 | |
| 生长室 | 腔体 | 腔体材料 | SS316 |
| 腔体尺寸 | 300mm I.D | ||
| 烘烤温度 | Max.200℃ | ||
| 本底真空 | < 5×10-10 mbar | ||
| 抽气系统 | 300L/s分子泵+10m3/h机械泵 | ||
| 真空测量系统 | 离子规+Pirani规 | ||
| 离子泵 | 选配 | ||
| 样品架 | 样品尺寸 | Flag-type样品托 | |
| 衬底加热方式 | 辐射加热 | ||
| 衬底加热器温度 | 室温-1200K | ||
| 电子束加热 | 选配 | ||
| 直流加热 | 选配 | ||
| 液氮制冷模块 | 选配 | ||
| 部件 | 蒸发源配置 | 3xDN40CF, 1xDN100CF | |
| 独立的蒸发源挡板 | 气动驱动 | ||
| QCM | 标配 | ||
| RHEED | 15KeV-30KeV | ||
| Ion Source | 选配 | ||
| RGA | 选配 | ||
| 超导磁体 | 磁体类型 | 干式/GM制冷 | |
| 磁体环境 | 室温腔体 | ||
| 腔体内径 | 105mm | ||
| 磁场强度 | ±9T | ||
| 磁场均匀性 | <0.1% | ||
| 快速进样室 | 腔体 | 腔体材料 | SS316 |
| 烘烤温度 | Max.200℃ | ||
| 本底真空 | <5×10-8 mbar | ||
| 抽气系统 | 80L/s分子泵+10m3/h机械泵 | ||
| 真空测量系统 | 全量程规 | ||
| 部件 | 样品停放台 | 6或12工位 | |
| 传样杆 | CF35/600mm | ||
| 机械手 | CF35/150mm | ||
| 系统集成及控制 | GUIDE软件 | 标配 | |
| 烘烤系统 | 标配 | ||
| 系统支架 | 标配 | ||
| 真空照明系统 | 选配 | ||
| 等离子清洗 | 选配 | ||
| CCD相机 | 选配 | ||
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