EN 021-6525 3206

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PVD SR300

PVD SR300 磁控溅射设备是一款小型台面式溅射系统,具有高真空、单原子层沉积精度的特点。

设备配备4 个2 英寸高真空阴极。满足简单的材料研究需求。


技术规格
本底真空:极限真空优于8×10-10mbar样品尺寸:4英寸晶圆样品向下兼容至标准旗形样品托加热模块:SiC加热(室温-850℃)
离轴溅射靶安装口:4个(2 inch)溅射方式:离轴溅射靶枪电源:直流/射频/脉冲直流/HiPIMS电源可选
选配模块:QCM、离子源辅助生长


标签: 超高真空MBE
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